Verfahren zur Bildung einer Struktur, Zusammensetzung zur Bildung eines Oberschichtfilms und Zusammensetzung zur Bildung eines Unterschichtfilms
EP2048541
Art A1
15. April 2009
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2048541
- Aktenzeichen
- EP07791450
- Anmeldetag
- 27. Juli 2007
- Veröffentlichung
- 15. April 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/26G03F7/11G03F7/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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