Ausrichtungs-Verfahren und -Gerät, lithographisches Gerät, Metrologiegerät und Herstellungsverfahren einer Vorrichtung
EP2048542
Art A2
15. April 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2048542
- Aktenzeichen
- EP08253242
- Anmeldetag
- 6. Oktober 2008
- Veröffentlichung
- 15. April 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon