Hochqualitative Siliziumoxid-Folien mit ferngesteuertem Plasma-CVD aus Disilanvorläufern

EP2053143 Art A3 2. September 2009

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2053143
Aktenzeichen: EP08167338
Anmeldetag: 22. Oktober 2008
Veröffentlichung: 2. September 2009
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/34C23C16/56C23C16/452

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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