Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung von Eigenschaften einer lithographischen Struktur auf einem Substrat
EP2053349
Art A3
24. Juni 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2053349
- Aktenzeichen
- EP08253455
- Anmeldetag
- 24. Oktober 2008
- Veröffentlichung
- 24. Juni 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01B11/06G01N21/21G01N21/47G01N21/95G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
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Leeming, John Gerard
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