Lithografische Vorrichtung mit einer Dämpfungsunteranordnung
EP2053461
Art B1
4. Dezember 2013
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2053461
- Aktenzeichen
- EP08167144
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2008
- Veröffentlichung
- 4. Dezember 2013
- Erteilung
- 4. Dezember 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Riemens, Roelof Harm
NoneRijswijk