Verfahren zum Herstellen eines Substrats für die Lithografie, Substrat, Vorrichtungsherstellungsverfahren, Aufbringer für die Isolierbeschichtung und Messvorrichtung für die Isolierbeschichtung
EP2058703
Art A1
13. Mai 2009
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2058703
- Aktenzeichen
- EP08253624
- Anmeldetag
- 5. November 2008
- Veröffentlichung
- 13. Mai 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Corcoran, Gregory Martin Mason
Veldhoven, Niederlande
102
Patente gesamt
7
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Jackson, Martin Peter
NoneLondon