Halbleiterspeicher mit segmentierter Zeilenreparation

EP2058820 Art A1 13. Mai 2009

Anmelder: Mosaid Technologies Incorporated, Micron Technology, Inc. 🇨🇦

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2058820
Aktenzeichen
EP09001943
Anmeldetag
7. Juni 2001
Veröffentlichung
13. Mai 2009
Rechtsraum
EP
IPC
G11C29/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Mosaid Technologies Incorporated
Micron Technology, Inc.
Land
🇨🇦 Kanada
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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