Strahlungsempfindliche Zusammensetzung und Prozess zum Herstellen einer Niedermolekularen Verbindung zur Verwendung Darin

EP2060949 Art A1 20. Mai 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2060949
Aktenzeichen: EP07793084
Anmeldetag: 28. August 2007
Veröffentlichung: 20. Mai 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004C07C309/12C07C381/12G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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