Herstellungsverfahren für Elektrode für die Entladungsoberflächenbehandlung und Elektrode für die Entladungsoberflächenbehandlung
EP2062998
Art B1
18. Juli 2012
Anmelder: Mitsubishi Electric Corporation, IHI Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2062998
- Aktenzeichen
- EP06783272
- Anmeldetag
- 11. September 2006
- Veröffentlichung
- 18. Juli 2012
- Erteilung
- 18. Juli 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C26/00B22F5/00B22F1/00B22F3/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Mitsubishi Electric Corporation
IHI Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Electric
Japanisches Unternehmen, das Elektro- und Elektroniktechnik entwickelt und herstellt, darunter Automatisierung, Energie-, Klima- und Fahrzeugtechnik.
18.870 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
IHI Corporation
Japanischer Industriekonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Schwermaschinenbau, Luft- und Raumfahrttriebwerke sowie Anlagenbau.
1.709 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München