Metalloxidhaltige, folienbildende Zusammensetzung, Mehrschicht-Resist und Verfahren zur Bildung einer Struktur in einem Substrat

EP2063319 Art B1 2. November 2011

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2063319
Aktenzeichen: EP08020109
Anmeldetag: 18. November 2008
Veröffentlichung: 2. November 2011
Erteilung: 2. November 2011
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/075G03F7/11G03F7/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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