Verfahren zur Simultanen Dotierung und Oxidation von Halbleitersubstraten und dessen Verwendung
EP2064750
Art A2
3. Juni 2009
Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der Angewandten Forschung e.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2064750
- Aktenzeichen
- EP07802115
- Anmeldetag
- 4. September 2007
- Veröffentlichung
- 3. Juni 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L31/18H01L31/0224
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der Angewandten Forschung e.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Fraunhofer-Gesellschaft
Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.
10.117 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Riepe, Hans-Gerd
München, Deutschland
33
Patente gesamt
13
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte