Ablative Plasmakanonenvorrichtung und ablatives Plasmakanonensystem

EP2066154 Art B1 23. März 2016

Anmelder: General Electric Company 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2066154
Aktenzeichen: EP08169577
Anmeldetag: 20. November 2008
Veröffentlichung: 23. März 2016
Erteilung: 23. März 2016
Rechtsraum: EP
IPC: H05H1/24H05H1/52H01T13/46H01T2/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: General Electric Company
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 General Electric

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Massachusetts. Historisch aktiv in Energieerzeugung, Luftfahrttriebwerken, Medizintechnik und Industrietechnik über verschiedene Geschäftsbereiche.

19.769 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von