Schutzobjektiv für eine Mikrolithographie-Vorrichtung mit Verbesserten Abbildungseigenschaften sowie Verfahren zur Verbesserung der Abbildungseigenschaften des Schutzobjektivs
EP2067076
Art A2
10. Juni 2009
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2067076
- Aktenzeichen
- EP07818556
- Anmeldetag
- 28. September 2007
- Veröffentlichung
- 10. Juni 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Heuckeroth, Volker
Stuttgart, Deutschland
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