Wässrige Dispersion zum Chemischen und Mechanischen Polieren und Verfahren zum Chemischen und Mechanischen Polieren von Halbleiterbauelementen
EP2071615
Art B1
18. Juli 2012
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2071615
- Aktenzeichen
- EP07828549
- Anmeldetag
- 27. September 2007
- Veröffentlichung
- 18. Juli 2012
- Erteilung
- 18. Juli 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09G1/02H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
1.781 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
TBK
TBK · München
-
TBK-Patent
TBK-Patent · München