Wässrige Dispersion zum Chemischen und Mechanischen Polieren und Verfahren zum Chemischen und Mechanischen Polieren von Halbleiterbauelementen

EP2071615 Art B1 18. Juli 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2071615
Aktenzeichen
EP07828549
Anmeldetag
27. September 2007
Veröffentlichung
18. Juli 2012
Erteilung
18. Juli 2012
Rechtsraum
EP
IPC
C09G1/02H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen