Verfahren zur Behandlung von Germaniumoberflächen und dabei verwendete Lösungen
EP2072994
Art A1
24. Juni 2009
Anmelder: Soitec, S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies, Soitec S.A. 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2072994
- Aktenzeichen
- EP07291590
- Anmeldetag
- 21. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 24. Juni 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N1/32// H01L21/306
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Soitec
S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies
Soitec S.A. - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
529 Patente in unserer Datenbank