Siliziumcarbid-Halbleiterbauelement und Verfahren zu Seiner Herstellung

EP2075847 Art A1 1. Juli 2009

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, National Institute Of Advanced Industrial Science 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2075847
Aktenzeichen
EP07807245
Anmeldetag
13. September 2007
Veröffentlichung
1. Juli 2009
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/78H01L29/08H01L21/04// H01L29/24H01L29/10
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
National Institute Of Advanced Industrial Science
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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