Verfahren zur Verflachung einer Festen Oberfläche mit einem Gascluster-Ionenstrahl
EP2079102
Art B1
20. April 2016
Anmelder: Japan Aviation Electronics Industry, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2079102
- Aktenzeichen
- EP07830836
- Anmeldetag
- 30. Oktober 2007
- Veröffentlichung
- 20. April 2016
- Erteilung
- 20. April 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/20H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Japan Aviation Electronics Industry, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Japan Aviation Electronics Industry
Japanischer Hersteller elektronischer Steckverbinder und Sensoren mit Sitz in Tokio, mehrheitlich im Besitz des Elektronikkonzerns Alps Alpine.
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