Verfahren zur Herstellung einer Schicht mit Gradiertem Bandabstand durch Abscheidung eines Amorphen Stoffes aus einem Plasma
Anmelder: Dow Corning Corporation, Ecole Polytechnique 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2080216
- Aktenzeichen
- EP07819352
- Anmeldetag
- 26. Oktober 2007
- Veröffentlichung
- 11. Februar 2015
- Erteilung
- 11. Februar 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32C23C16/24C23C16/455C23C16/511H01L31/0376H01L31/065H01L31/076H01L31/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Dow Corning Corporation
Ecole Polytechnique - Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanischer Hersteller von Silikonen und siliziumbasierten Materialien mit Sitz in Michigan, gegründet 1943 als Joint Venture von Dow Chemical und Corning. Das Unternehmen firmiert heute als Dow Silicones Corporation.
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Die Ecole Polytechnique ist eine französische Ingenieurhochschule bei Paris mit starker naturwissenschaftlicher Forschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt um Elektronik, Metallurgie und Optik. Anmeldungen laufen durchgehend von 2000 bis in die Gegenwart, unter anderem zu Photovoltaik.
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