Positive Resistzusammensetzungen und Strukturierungsverfahren
EP2081083
Art B1
21. September 2011
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2081083
- Aktenzeichen
- EP09000569
- Anmeldetag
- 16. Januar 2009
- Veröffentlichung
- 21. September 2011
- Erteilung
- 21. September 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/039G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Merkle, Gebhard
München, Deutschland
721
Patente gesamt
32
Fachgebiete
9
Anmelder-Länder
Schwerpunkte