Verfahren zum Plasmaätzen zur Erzeugung Positiver Ätzprofile in Siliziumsubstraten
EP2084734
Art B1
11. Mai 2011
Anmelder: Technische Universität Dresden 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2084734
- Aktenzeichen
- EP07785710
- Anmeldetag
- 15. August 2007
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2011
- Erteilung
- 11. Mai 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065B81C1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Technische Universität Dresden
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Technische Universität Dresden
Deutsche Volluniversität mit Sitz in Dresden, Forschung und Lehre in Natur-, Ingenieur-, Geistes- und Gesellschaftswissenschaften, mit zahlreichen Patentanmeldungen aus ihren technischen Fakultäten und Instituten.
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Vertreten von
Hempel, Hartmut
Dresden, Deutschland
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