Verbesserter Prozess zur Übertragung einer in einem Substrat mit Leerclustern Gebildeten Dünnschicht
EP2084740
Art A1
5. August 2009
Anmelder: Soitec, S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies S.A. 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2084740
- Aktenzeichen
- EP06847248
- Anmeldetag
- 27. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 5. August 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H01L21/322
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Soitec
S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies S.A. - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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Collin, Jérôme
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Regimbeau
Regimbeau · Rennes