Vorrichtung und Verfahren zu Ihrer Herstellung
EP2084745
Art A1
5. August 2009
Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2084745
- Aktenzeichen
- EP07832713
- Anmeldetag
- 21. November 2007
- Veröffentlichung
- 5. August 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L27/28H01L21/02H01L21/336H01L27/10H01L27/12H01L29/786H01L51/05G11C13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Semiconductor Energy Laboratory
Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.
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