Prozess zur Halbleiterbauelementeproduktion unter Verwendung eines durch Fotovernetzung Ausgehärteten Unterresistfilms

EP2085822 Art A1 5. August 2009

Anmelder: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2085822
Aktenzeichen: EP07829478
Anmeldetag: 10. Oktober 2007
Veröffentlichung: 5. August 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11C08F220/10C08F220/26G03F7/40H01L21/027G03F7/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von