Resist-Zusammensetzung für Immersionsbelichtung, Verfahren zum Bilden einer Resist-Struktur unter Verwendung der Zusammensetzung und fluorhaltige Verbindung
EP2088466
Art B1
26. Oktober 2016
Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2088466
- Aktenzeichen
- EP09152046
- Anmeldetag
- 4. Februar 2009
- Veröffentlichung
- 26. Oktober 2016
- Erteilung
- 26. Oktober 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/20G03F7/039C07C69/00C07C69/653C07C69/712G03F7/038C08F212/08C08F212/14C08F220/22C08F220/24C08F220/26C08F220/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
927 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hart-Davis, Jason
Paris, Frankreich
1.276
Patente gesamt
31
Fachgebiete
23
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Portal, Gérard
NoneParis