Verfahren zur Herstellung eines Fet-Gates

EP2089898 Art A1 19. August 2009

Anmelder: NXP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2089898
Aktenzeichen
EP07826871
Anmeldetag
25. Oktober 2007
Veröffentlichung
19. August 2009
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/28
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
NXP B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 NXP Semiconductors

Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.

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