Mittel zum Chemisch-Mechanischen Polieren (cmp), Additivlösung für die Cmp-Poliermittel und Verfahren zum Polieren eines Substrats durch Verwendung des Poliermittels und der Additivlösung

EP2090400 Art A1 19. August 2009

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2090400
Aktenzeichen: EP07807270
Anmeldetag: 13. September 2007
Veröffentlichung: 19. August 2009
Rechtsraum: EP
IPC: B24B37/00C09K3/14H01L21/304C08L33/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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