Positive Resistzusammensetzung zur Verwendung mit Elektronen-, Röntgen- oder EUV-Strahlen und Verfahren zur Strukturformung, das diese Zusammensetzung verwendet

EP2090932 Art B1 31. Mai 2017

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2090932
Aktenzeichen: EP09001967
Anmeldetag: 12. Februar 2009
Veröffentlichung: 31. Mai 2017
Erteilung: 31. Mai 2017
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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