Dispersion von Hochoberflächigem Siliciumdioxid

EP2091867 Art A1 26. August 2009

Anmelder: Evonik Degussa GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2091867
Aktenzeichen: EP07802953
Anmeldetag: 28. August 2007
Veröffentlichung: 26. August 2009
Rechtsraum: EP
IPC: C01B33/141

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Evonik Degussa GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Evonik

Deutscher Spezialchemiekonzern mit Sitz in Essen. Entwickelt und produziert Chemikalien, Additive und Materialien für Industrie, Gesundheit, Ernährung und Konsumgüter.

5.558 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

Vertreten von