Doppelstrukturierung für die Lithographie zur Vergrösserung der Räumlichen Strukturelementedichte

EP2092393 Art A2 26. August 2009

Anmelder: NXP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2092393
Aktenzeichen
EP07849107
Anmeldetag
13. November 2007
Veröffentlichung
26. August 2009
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
NXP B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 NXP Semiconductors

Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.

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