Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zum Bilden einer Resiststruktur damit
EP2093213
Art B1
4. Oktober 2017
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2093213
- Aktenzeichen
- EP09153291
- Anmeldetag
- 20. Februar 2009
- Veröffentlichung
- 4. Oktober 2017
- Erteilung
- 4. Oktober 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004C07C69/67G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Hart-Davis, Jason
Paris, Frankreich
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Weitere Vertreter
-
Portal, Gérard
NoneParis