Lithographische Vorrichtung, Substrattisch und Verfahren zum Ablösen eines Wafers
EP2095190
Art A1
2. September 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2095190
- Aktenzeichen
- EP07851923
- Anmeldetag
- 18. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 2. September 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven