Plasma-Euv-Lichtquelle mit Laserproduziertem Plasma

EP2095693 Art B1 21. Oktober 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV, Cymer, LLC, Cymer, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2095693
Aktenzeichen: EP07862537
Anmeldetag: 4. Dezember 2007
Veröffentlichung: 21. Oktober 2015
Erteilung: 21. Oktober 2015
Rechtsraum: EP
IPC: H05G2/00G01J3/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV
Cymer, LLC
Cymer, Inc.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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