Trennungs-/reinigungsverfahren und Mikrofluidkreis

EP2096179 Art A1 2. September 2009

Anmelder: Rohm Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2096179
Aktenzeichen
EP07850628
Anmeldetag
14. Dezember 2007
Veröffentlichung
2. September 2009
Rechtsraum
EP
IPC
C12Q1/68C12M1/00C12M1/34G01N21/27G01N27/327G01N33/543G01N33/574G01N35/00G01N35/08G01N37/00C12N15/09
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Rohm Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Rohm

Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).

2.771 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen