Verfahren zur Herstellung eines Epitaxial-Siliciumwafers
EP2096196
Art A1
2. September 2009
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2096196
- Aktenzeichen
- EP09002676
- Anmeldetag
- 25. Februar 2009
- Veröffentlichung
- 2. September 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/06C30B25/02H01L21/205
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
281 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Baar, Christian
München, Deutschland
26
Patente gesamt
6
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte