Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie

EP2100190 Art B1 4. April 2012

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2100190
Aktenzeichen: EP07846805
Anmeldetag: 24. November 2007
Veröffentlichung: 4. April 2012
Erteilung: 4. April 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G02B27/09G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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