Siliciumnitridsubstrat, Herstellungsverfahren dafür und Siliciumnitrid-Leiterplatte und Halbleitermodul damit

EP2100865 Art B1 10. Februar 2016

Anmelder: Hitachi Metals, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2100865
Aktenzeichen
EP09154697
Anmeldetag
10. März 2009
Veröffentlichung
10. Februar 2016
Erteilung
10. Februar 2016
Rechtsraum
EP
IPC
C04B35/593H01L23/15H01L23/373
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Hitachi Metals, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

1.209 Patente in unserer Datenbank

Kanzlei
SR Huebner PatentanwaltsG mbH München, Deutschland

SR Huebner ging als Ausgründung aus dem Max-Planck-Institut für internationales Patent-, Urheber- und Wettbewerbsrecht hervor. Über die Hälfte der Verfahren betrifft Länder außerhalb Europas wie USA, Japan und China, mit Standorten in München und Mannheim.

276
Patente gesamt
2
Patentanwälte
1
Standorte

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen