Hydroxylhaltiges Monomer, Polymer, Resistzusammensetzung und Strukturierungsverfahren
EP2103592
Art B1
3. Juni 2015
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2103592
- Aktenzeichen
- EP09003777
- Anmeldetag
- 16. März 2009
- Veröffentlichung
- 3. Juni 2015
- Erteilung
- 3. Juni 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C69/54C08F220/18G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Merkle, Gebhard
München, Deutschland
721
Patente gesamt
32
Fachgebiete
9
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Ter Meer Steinmeister & Partner
Ter Meer Steinmeister & Partner · München