Verfahren zur Hemmung von Hintergrundplattierung

EP2103716 Art B1 1. Mai 2013

Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2103716
Aktenzeichen
EP09154740
Anmeldetag
10. März 2009
Veröffentlichung
1. Mai 2013
Erteilung
1. Mai 2013
Rechtsraum
EP
IPC
C25D3/46C25D5/02H01L31/0224C25D7/12
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Rohm and Haas Electronic Materials LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Rohm and Haas

Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.

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