Gegen aktinische Strahlung empfindliche oder strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Strukturbildungsverfahren damit, polymerisierbare Verbindung und durch Polymerisierung der polymerisierbaren Verbindung erhaltene Polymerverbindung
EP2105440
Art B1
24. Oktober 2012
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2105440
- Aktenzeichen
- EP09156138
- Anmeldetag
- 25. März 2009
- Veröffentlichung
- 24. Oktober 2012
- Erteilung
- 24. Oktober 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07D311/94G03F7/004G03F7/039C07C69/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München