Epitaxialsiliciumwafer und Herstellungsverfahren dafür

EP2105523 Art A1 30. September 2009

Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2105523
Aktenzeichen
EP09002301
Anmeldetag
18. Februar 2009
Veröffentlichung
30. September 2009
Rechtsraum
EP
IPC
C30B25/02C30B25/16C30B29/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Siltronic AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Siltronic

Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.

281 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen