Vorrichtung zur Ablage eines Dünnfilms auf Siliziumbasis und Verfahren zur Ablage eines Dünnfilms auf Siliziumbasis
EP2107593
Art A3
14. Dezember 2011
Anmelder: NGK Insulators, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2107593
- Aktenzeichen
- EP09250884
- Anmeldetag
- 27. März 2009
- Veröffentlichung
- 14. Dezember 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32C23C14/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NGK Insulators, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NGK Insulators
Japanisches Industrieunternehmen mit Sitz in Nagoya. NGK Insulators fertigt Keramikprodukte, darunter Isolatoren, Abgaskatalysatorträger, Sensoren und Energiespeichersysteme für Energieversorgung, Automobil und Industrie.
4.047 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Paget, Hugh Charles Edward
London, Großbritannien
2.000
Patente gesamt
31
Fachgebiete
19
Anmelder-Länder
Schwerpunkte