Oberflächenaufrauungsverfahren

EP2109583 Art A1 21. Oktober 2009

Anmelder: Soitec, S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies S.A. 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2109583
Aktenzeichen
EP08702248
Anmeldetag
10. Januar 2008
Veröffentlichung
21. Oktober 2009
Rechtsraum
EP
IPC
B81C1/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Soitec
S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies S.A.
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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