Sulfoniumsalz beinhaltendes Polymer, Resistzusammensetzung und Strukturierungsverfahren

EP2112554 Art B1 6. Juni 2012

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2112554
Aktenzeichen: EP09005649
Anmeldetag: 22. April 2009
Veröffentlichung: 6. Juni 2012
Erteilung: 6. Juni 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039C07C309/12C07C381/12C08F220/38G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von