Cnt-Infundierte Faser und Verfahren dafür
EP2115191
Art B1
3. Oktober 2012
Anmelder: Applied NanoStructured Solutions, LLC, Lockheed Martin Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2115191
- Aktenzeichen
- EP07869060
- Anmeldetag
- 7. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 3. Oktober 2012
- Erteilung
- 3. Oktober 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- D01F9/127D01F9/12D01F11/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Applied NanoStructured Solutions, LLC
Lockheed Martin Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lockheed Martin
US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Rüstungskonzern mit Sitz in Maryland, tätig in Entwicklung von Kampfflugzeugen, Raketensystemen, Satelliten und Verteidigungstechnik.
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Bill, Burkart Hartmut
Darmstadt, Deutschland
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