Laserproduzierte Plasma-Euv-Lichtquelle

EP2115406 Art B1 19. Juni 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV, Cymer, LLC, Cymer, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2115406
Aktenzeichen: EP08713374
Anmeldetag: 1. Februar 2008
Veröffentlichung: 19. Juni 2019
Erteilung: 19. Juni 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV
Cymer, LLC
Cymer, Inc.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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