Mehrschichtiges und Reflektierendes Optisches Element für Euv-Lithographievorrichtungen mit einer Ersten und einer Zweiten Zusatzzwischenschicht
EP2115751
Art B1
27. Mai 2015
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2115751
- Aktenzeichen
- EP08715682
- Anmeldetag
- 2. Februar 2008
- Veröffentlichung
- 27. Mai 2015
- Erteilung
- 27. Mai 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G21K1/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
2.391 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Werner, Anne-Estelle
Münster, Deutschland
19
Patente gesamt
13
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Werner & ten Brink
Werner & ten Brink · Münster