Passivierungsschicht für eine Schaltungsvorrichtung und Verfahren zu Ihrer Herstellung
EP2118926
Art B1
26. Oktober 2011
Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2118926
- Aktenzeichen
- EP08728219
- Anmeldetag
- 24. Januar 2008
- Veröffentlichung
- 26. Oktober 2011
- Erteilung
- 26. Oktober 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768H01L23/482H01L23/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Raytheon Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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Fachgebiete
Vertreten von
Lawrence, John
Birmingham, Großbritannien
4.152
Patente gesamt
34
Fachgebiete
40
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Kemp, Paul Geoffrey
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