Verfahren zur Formung von Strukturen mit Hoher Dichte und Strukturen mit Niedriger Dichte Mithilfe einer Einzelnen Fotomaske
EP2118928
Art B1
12. Oktober 2011
Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2118928
- Aktenzeichen
- EP08725624
- Anmeldetag
- 15. Februar 2008
- Veröffentlichung
- 12. Oktober 2011
- Erteilung
- 12. Oktober 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/8247
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Micron Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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Vertreten von
Beresford, Keith Denis Lewis
London, Großbritannien
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