Aus einer Sinterungsresistenten Metalllegierung mit Hohem Schmelzpunkt Geformtes Target, Metallsilicid mit Hohem Schmelzpunkt, Metallcarbid mit Hohem Schmelzpunkt, Metallnitrid mit Hohem Schmelzpunkt oder Metallborid mit Hohem Schmelzpunkt, Verfahren zur Herstellung des Targets, Anordnung für eine Sputter-Target-Rückplatte und Herstellungsverfahren dafür
EP2119808
Art B1
17. September 2014
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2119808
- Aktenzeichen
- EP08704146
- Anmeldetag
- 30. Januar 2008
- Veröffentlichung
- 17. September 2014
- Erteilung
- 17. September 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B23K20/00C04B37/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
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27
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