Verwendung einer Zusammensetzung zu einer Resist-Unterschichtfilm-Bildung für die Elektronenlithographie

EP2120095 Art B1 24. April 2013

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2120095
Aktenzeichen: EP08711564
Anmeldetag: 19. Februar 2008
Veröffentlichung: 24. April 2013
Erteilung: 24. April 2013
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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